原因很简单，只有这么做他们才能依然保持着行业垄断，同时收回前期投入的几十亿美元的资金。

这个情况就像现在的个人便携式音乐播放器市场，他们不是不明白新技术的优势和代表着产品的未来方向。

而是不愿意新技术现在就在市场上蚕食他们的份额，更不愿意一切重来的推倒炉灶。

而且即使在研发157nm的duv光刻机的时候，这两家公司也在多电子束，离子流技术，甚至浸没式光刻技术光刻技术，等等研发领域悄悄的组建了研究机构，并且大量的提前申请布局专利壁垒。

就比如在三年前的99年3月16日，nikon公司就向专利局提交了浸没式光刻技术专利申请，专利名称是“projectionexposuremethodandsystem”。该pct国际公开日是99年9月30日，国际公开号：wo99/49504。

可以说是相当的鸡贼。

包括和asml合作的麻省理工学院（mit）林肯实验室，也在157nmduv上努力的给asml助力。

不过他们研究的方向有别于nikon和canon在纯氮气中进行157nm光波雕刻，而是选择了离子水（纯化水）状态下的157nm浸没实验。

这个实验大致和nikon的浸没式光刻技术专利差不多，都是研究在纯净水状态下157nmduv的雕刻性能。