而听了这话的冯裕庆脸上的笑容没了，人也傻了。

陈望进了办公室就把考核的事告诉了刘俊芳。

虽然有些突然，但刘俊芳对此没有任何意见，今天已经八月十二号暑假都已经过半，再不考核暑假都过完了，哪里还有时间进实验室搞研究。

“好，我现在就开始准备。”

陈望点点头就把这事抛到了脑后，反正到时候他只需要出题就行，其他的有刘俊芳。

“陈组长，这会去实验室吗？”

“对，今天的研究比较重要，中午饭你直接帮我送到实验室吧，我就不去食堂吃了。”

“好。”

陈望穿上实验服就去了实验室。

这一段时间他一直在研发投影式光刻机的镜头，这是研发投影式光刻机的五大难点之一。

陈望之前在江宁省实验厂研发的78型光刻机是接近式光刻机，别看接近式光刻机下一代就是投影式光刻机。

但投影式光刻机对于接近式光刻机来说可不仅仅是技术更新了一代而已，而是已经发生了本质的变化。

最开始的接触式光刻机是掩膜直接压在晶圆上，这种十分容易刮片，分辨率也低，之前华国大部分半导体工厂就使用的这种光刻机，良率也低。

而接近式光刻机顾名思义，那就是掩膜和晶圆不接触，留一点点小缝隙。

它比接触式好一点，但是分辨率还是差，良率也不高。