基于自研异构计算架构和新算法，在处理n+1复杂度版图时，计算效率已达国际主流工具95%，且在特定图形补偿精度上有5-10%优势。

自研工具与自研pdk的深度定制优势，是外购工具无法比拟的。

另外它采用深度强化学习与生成对抗网络（gan）结合的方式，不再是机械地遵循规则，而是‘理解’光刻机的成像物理过程，直接生成最优的校正图形。”

陈默展示了一组震撼的数据：

“在balong5000的某个关键层，采用‘女娲’系统，将opc计算时间从传统的14天缩短到18小时，同时校正精度提升40%，有效预测并规避了3处潜在的光刻热点。

这意味着，我们不仅能更快地拿到可生产的掩膜版，更能从源头提升流片良率。”

孟良凡激动地直接站了起来：

“18小时？！陈总，你确定这是基于我们n+1工艺复杂规则的结果？

这......这简直是奇迹！”

作为工艺专家，他太清楚这背后意味着什么了。

陈默淡然一笑：

“孟教授，奇迹源于积累。

‘女娲’系统的训练，离不开张哲博士3dem引擎提供的精确电磁场数据，以及李维明博士团队提供的器件物理边界条件。

是他们夯实了基础，钟耀祖的ai才能挥洒自如。

系统的训练也是近期才完成的。”