“砰！”罗朝斌忍不住拍了下桌子，想骂一个马勒戈壁的。

但脸上怒容一闪而逝，最终化为沉重的叹息。

“所以，”孟良凡双手撑在桌面上，语气充满了不甘却又无比坚定，“我们只能，也必须，在现有的duv光刻机上，进行极限操作，走一条无比艰难、但充满智慧的‘迂回之路’！这就是n+1、n+2！”

他开始深入解释n+1工艺的本质和巨大挑战：

“n+1，本质上是在我们14nmfinfet工艺平台上，通过一系列登峰造极的‘技术魔术’去无限逼近更高制程的性能。当然这里面的核心就是多重曝光。”

他用了一个形象的比喻：

“这就好比，别人开着装备了顶级gps和引擎的越野车（euv）在平坦大道上飞驰。

而我们，被没收了关键装备，只能开着一辆性能不错的家用轿车（duv）。

但我们凭借对地图的极致研究（物理和工艺理解）和超凡的驾驶技术（多重曝光等复杂工艺），硬是要在一条布满巨石和深坑的崎岖山路上，蹚出一条能到达目的地的通道。”

“代价是什么？”孟良凡自问自答，语气沉重。

“代价是工艺步骤复杂度成倍增加，生产周期大幅拉长，初始良率惨不忍睹，以及单个芯片成本的急剧飙升！

代价是在冯总和陈总不遗余力的配合下，今年3三月把良品率才很勉强得提高到了68%，目前还在艰难爬坡中！

这是一种‘笨’办法，一种‘苦’办法！

但，这是我们唯一能掌握能通向自主高端的生命线！”

他看向汪剑锋，又看向陈默：

“所以，汪总，您问最大的挑战和需要什么支持？

挑战在于，我们需要在工艺、设计、工具链三个维度，同时进行极限突破，容不得任何一块短板！